现如今，信息技术加速迭代发展，电子芯片的发展成为了各界关注的焦点。随着我国越来越多的产业生产离不开芯片，人们开始认识到芯片生产的重要性，而芯片的生产离不开超纯水，今天我们就来介绍芯片生产需要超纯水是如何制备的。

　　据了解，一颗芯片要经过几十道工艺技术，每一道工艺或许都是代表着高科技水平，因此芯片在生产过程中对于用水水质的要求是非常高的，水中的杂质对芯片的影响非常大。而超纯水是指电阻率达到18 MΩ·cm的水，这种水中除了水分子外，几乎没有什么杂质，完全满足芯片生产用水需求。

　　那么，传统的超纯水制备工艺通常是采用离子交换树脂进行制取，但采用离子交换树脂通常需要定期进行树脂再生，即耗费物力又浪费人工。目前，市面上主要采用的反渗透技术、EDI技术和抛光混床技术来制备超纯水，该工艺与传统工艺相比具有抗污染能力强、节能环保、产水水质稳定、脱盐率高、系统内无死水等优势。

　　使用上述工艺的超纯水设备还具有良好的实用价值，可实现自动控制，从某种程度上而言，可以有效的达到我国电子级水质标准，具有自动化程度高，过程易实现自动控制，产水水质稳定等优势。

　　综上，随着芯片研发技术的加快，我国要做的就是摆脱芯片进口依赖，加强相关产业的发展，为未来芯片技术的发展打好坚实的基础。

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　　编辑：虞美人 技术：米